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产品编号：003
产品规格：1加仑/桶、20升/桶
产品简介：去胶液、正胶去胶液、负胶去胶液、光刻胶剥离液、去光阻剂
该产品适用于集成电路（IC）、LED、先进封装（WLP）等领域，能够快速、彻底地去除光刻工艺后残留的正性/负性光刻胶，为后续蚀刻、沉积等工艺步骤提供洁净表面 。
半导体化学品
3C玻璃化学品
3C金属化学品