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光刻胶

产品编号:001

产品规格:1加仑/桶

产品简介:紫外负性剥离光刻胶

产品详情

本光刻胶是化学放大型i-线负性光刻胶,主要应用于半导体金属互联溅射沉积+剥离工艺中,分为常规产品和耐高温产品两大类,根据客户的膜厚(0.5-20微米)需求对应不同的粘度系列。该系列产品具有高分辨率、高曝光和温度宽容度、高附着力、可控的undercut倒角、非常易于剥离去除无残留等性能特点。